氧化鈮靶材,噴涂氧化鈮靶材,

旋轉氧化鈮靶（NbOxSputteringTarget）主要用于光學(xué)玻璃、平面顯示行業(yè)、建筑玻璃鍍膜行業(yè)、薄膜光伏太陽(yáng)能電池電較膜系等，可生產(chǎn)狗骨型，或按客戶(hù)要求定制靶材。在半導體材料行業(yè)中，國產(chǎn)靶材替代國外靶材已經(jīng)嶄露頭角，呈現定點(diǎn)打破局面，正是需要社會(huì )資金大力投入奮力追趕之關(guān)鍵時(shí)刻。價(jià)格也昂貴，這方面的要求明顯高于平面顯示器、太陽(yáng)能電池等其他應用領(lǐng)域。在硅片的正面和背面制造非常精細的電路，將光

2024-08-27 面議/套

合肥濺射靶材,濺射靶材,濺射

大部分國家應用于筆記型計算機及平板計算機的觸控面板模塊產(chǎn)值估計將達到57億美元，年增長(cháng)率將超30%。觸控面板的產(chǎn)業(yè)鏈很長(cháng)，主要包括AMOLED、玻璃基板、玻璃硬化、薄膜基材、驅動(dòng)IC、ITO靶材、ITO膜、玻璃傳感器、薄膜傳感器、玻璃模組、薄膜模組等子行業(yè)。濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，較大地滿(mǎn)足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。 半導體芯片行業(yè)用的金屬濺射靶材，主要種類(lèi)包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢

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平面鋁釹靶材,鋁釹合金靶材,

鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結方法研發(fā)和生產(chǎn)小尺寸平面靶，大尺寸靶是通過(guò)小尺寸拼接形成。 由于不是一體化（需要拼接）容易產(chǎn)生電弧放電，因此成膜質(zhì)量差，難以真實(shí)應用到高質(zhì)量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管，人們已經(jīng)采用真空熔煉生產(chǎn)空心鋁釹靶靶管，并通過(guò)銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產(chǎn)鋁釹旋轉靶材。由于銦焊料昂貴（占整個(gè)靶材成本50% )導致鋁釹 旋

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硅靶材,多晶硅靶,單晶硅吧,

濺射靶材主要應用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導體等領(lǐng)域。其中，在濺射靶材應用領(lǐng)域中，半導體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀(guān)結構等方面都設定了極其苛刻的標準。高純靶材主要用于對材料純度、穩定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應用領(lǐng)域中，半導體芯片對濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般在5N（99.999%）以上。隨著(zhù)電子

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鍍膜靶材,鈦鋁合金靶,鋁鈦合

? 鈦鋁合金靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜，LOW-E鍍膜玻璃，半導體電子加工尺寸:長(cháng)度:4000MM厚度:6-10MM，直型、狗骨型，對于貨品靶材，若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理，將會(huì )是對稀貴材料的較大浪費；同時(shí)，靶材從原材料到加工成成品，成材率一般只有40%-80%，大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材，由于材料價(jià)格昂貴，迫切需要對加工過(guò)程的余料殘屑的提純再利用及對殘

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鉭靶材,平面鉭靶材,綁定鉭靶

靶材如何應用于半導體行業(yè)？半導體芯片行業(yè)用的金屬靶材，主要種類(lèi)包括：鉭、銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材，以及鎳鉑、鎢鈦等合金類(lèi)的靶材。濺射靶材種類(lèi)繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。濺射靶材根據材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無(wú)機非金屬(陶瓷化合物：氧化物/硅化物/碳化物等)、濺射靶材種類(lèi)繁多，就ITO導電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶

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旋轉鈮靶材,金屬鈮靶材,噴涂

旋轉鈮靶 Rotatable Nb target。應用：廣泛用于光學(xué)玻璃，觸摸屏之AR膜系，Low-E玻璃膜系，微電子靶材這塊，中國的微電子靶材從零開(kāi)始，能發(fā)展到目前的水平，應該說(shuō)成果是非常顯著(zhù)的。光學(xué)器件需依靠光學(xué)鍍膜形成一層或多層的介電質(zhì)膜和金屬膜，通過(guò)二者組成的膜系來(lái)改變光波傳導的特性。包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變，主要用到硅、鈮、二氧化硅、鉭等靶材。光學(xué)器件應用范圍非常廣

2024-08-27 面議/條

Nb靶材,高純度鈮靶,鈮管靶材

? ? ? 大部分國家靶材市場(chǎng)主要由日美公司所掌控,市場(chǎng)集中度較高。日礦金屬是大部分國家的靶材供應商，靶材銷(xiāo)售額約占大部分國家市場(chǎng)的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠(chǎng)后，占到大部分國家市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。對靶材用量較大的行業(yè)主要有半導體集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、磁記錄介質(zhì)、光學(xué)器件等（這些就是按應用的）。其

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鎳濺射靶材,旋轉鎳靶材,鎳管

半導體、面板、PCB相關(guān)行業(yè)發(fā)展脈絡(luò )分析電子行業(yè)是發(fā)展新經(jīng)濟的基石。鍺和硅是常用的元素半導體；化合物半導體包括第Ⅲ和第Ⅴ族化合物、第Ⅱ和第Ⅵ族化合物（硫化鎘、硫化鋅等）、氧化物（錳、鉻、鐵、銅的氧化物），一類(lèi)是不改變材料的化學(xué)組成進(jìn)行提純，在朝產(chǎn)業(yè)集群化的方向發(fā)展。半導體行業(yè)經(jīng)常發(fā)生并購整合活動(dòng)，為客戶(hù)提供滿(mǎn)足無(wú)論是在工業(yè)、汽車(chē)、個(gè)人電子或其他領(lǐng)域。 鉬靶材可分為很多種例如：寬幅鉬靶材，平面鉬靶，

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廣東鎳合金靶材 鎳鉻合金靶

? ? ? 雙銀可鋼的Low-E玻璃用了你們的靶材達到了效果。Low-E玻璃表面的鍍膜層具有對可見(jiàn)光高透過(guò)及對紅外線(xiàn)高反射的特性，具有不錯的建筑節能效果和良好的透光性�？蒲腥藛T發(fā)現，摻雜劑在給—受體異質(zhì)結處的分布是實(shí)現器件外量子效率提升的關(guān)鍵。農業(yè)生產(chǎn)體系太陽(yáng)能電池的光生電荷過(guò)程包括光子吸收、激子解離、電荷傳輸與電荷收集四個(gè)基本步驟。ITO靶材是主要由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）納米金

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