? ? ? 目前國內氧化物薄膜材料的制備方法和技術(shù)有很多,其中主要的方法有脈沖激光沉積、磁控濺射、電子束蒸發(fā)、分子束外延等物理方法以及化學(xué)氣相沉積、溶膠-凝膠、噴霧熱解等化學(xué)方法。在這些制備技術(shù)中,磁控濺射鍍膜技術(shù)具有易于大面積鍍膜、工業(yè)化生產(chǎn)以及薄膜品質(zhì)、成分、結構、均勻性等易于調控的優(yōu)勢,是產(chǎn)業(yè)化制備氧化物薄膜材料的重要方法之一以該方法制備的氧化物薄膜材料在液晶面板、觸摸屏、薄膜太陽(yáng)能電池、發(fā)
2024-08-26 面議/套中國芯片究竟在哪個(gè)環(huán)節被美國“卡”了脖子?數據表明,2019年,我國芯片自給率僅為30%左右。根據有關(guān)部門(mén)的發(fā)展規劃,2025年,中國預計將芯片自給率提升到70%,這差不多是當下美國等芯片大國的平均水平。作為一個(gè)龐大且復雜的行業(yè),芯片行業(yè)擁有一條超長(cháng)的產(chǎn)業(yè)鏈。在靶材領(lǐng)域,日本的日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯占據了大部分市場(chǎng)。相比之下,而且導致了對于日本半導體材料的高度依賴(lài)。其整體可分為設計、制
2024-08-26 面議/套? ? ? 氧化錫銻(ATO)具有以下不錯的性能。導電性,均勻分散的導電納米超微粒子的相互作用形成導電膜,導電膜中電荷移動(dòng)可實(shí)現高透射率和防靜電(30Ω.cm2),透明性,ATO納米超微粒子對可視光(380nm-780nm)的吸收率極弱,而且對可視光難以散射的大小粒子組成,所以有著(zhù)高的透明性。隔紅外、隔紫外、防輻射性能,能有效地阻止紅外輻射和紫外線(xiàn)輻射,阻隔紅外效果達80%以上,阻隔紫外效果達65
2024-08-26 面議/套? ? 由于鋰離子電池具有不錯的性能,如高能量密度、高操作電壓、長(cháng)循環(huán)壽命、低自放電率等,故廣泛應用在手機、筆記本電腦等電子產(chǎn)品中。作為鋰電池的重要組成部分,隔膜在正極與負極材料之間起電子絕緣、提供微孔通道支持離子遷移的作用。電池的容量、循環(huán)以及安全性能與隔膜性能的優(yōu)劣有著(zhù)直接的關(guān)系,可以說(shuō),沒(méi)有高質(zhì)量的隔膜就不會(huì )有性能不錯的電池。 芯片制造對濺射靶材金屬純度的要求較高,通常要達到99.9995%
2024-08-26 面議/公斤國家對薄膜電池的支持不斷加大,對于制備透明導電膜、LED液晶顯示器的ITO靶材來(lái)說(shuō),也是重要的發(fā)展機遇。該領(lǐng)域靶材產(chǎn)品主要為學(xué)發(fā)達國家靶材制造技術(shù),以***替代為中短期目標。大部分國家ITO靶材需求市場(chǎng)主要集中在日本、韓國、中國大陸等亞洲國家。其中中國占到大部分國家總需求的35%以上。ITO導電膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的主要風(fēng)險,在于主要應用市場(chǎng)的需求飽和。據UVTM公司負責人介紹,ITO導電膜面臨其他光電薄膜
2024-08-26 面議/套? ? ? 合金靶材: 鉻鋁合金靶,金鈀合金,金錫合金,金鍺鎳合金,鋁釩合金靶,鋁鉻釔合金靶,鋁硅合金靶,鋁硅銅合金靶,鋁鐵合金靶,鎂鉻合金靶,鉬鎳合金靶,鎳鉑合金靶,鎳釩合金靶,鎳鉻合金靶,鎳鉻鋁釔合金靶,鎳硅合金靶,鎳碳合金靶,鎳鐵合金靶,坡莫合金靶,鎳銅合金靶,鈦硅合金靶,鈦鋁硅合金靶,鈦硅碳合金靶,鈦鋁合金靶,鈦鎳合金靶,鈦鎢合金靶,鐵碲合金靶,鐵鉻鈷合金靶,鐵鈷合金靶,鐵鎳合金靶,鐵鈷鎳
2024-08-26 面議/套? ? ? UVTM擁有廣東省“科技小巨人”企業(yè)稱(chēng)號、“廣東省省鎢鉬深加工工程實(shí)驗室”、“深圳市鎢鉬靶材工程技術(shù)研究中心”、“深圳市鎢鉬深加工工程研究中心”、“深圳市鎢鉬深加工研發(fā)中心”、“深圳市企業(yè)技術(shù)中心”、“廣東省鎢鉬靶材及硬質(zhì)合金新材料產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng )新戰略聯(lián)盟”盟主稱(chēng)號,與國內多所高校、研究院所建立了良好的產(chǎn)學(xué)研合作關(guān)系,為公司技術(shù)研發(fā)提供良好的服務(wù)平臺,提高企業(yè)科研創(chuàng )新活力。 ? ? ? 目
2024-08-26 面議/套? ? ? 鈦硅合金材料是一種高熔點(diǎn)的金屬間化合物,具有低的密度、良好的舒緩反應性,因而受到廣泛的重視。TiSi2是一種重要的硅化物,具有較好的高溫穩定性、較高的高溫強度和良好的舒緩反應能力,有希望成為1200℃以上使用的結構材料。由于其電阻和熱阻均較低,TiSi2也有希望應用于電氣連接和擴散阻擋層,目前已被作為歐姆接觸和金屬互聯(lián)材料廣泛用于超大規模集成電路制造技術(shù)中。形成鈦硅涂層,用磁控濺射法,
2024-08-26 面議/套? ? ? 鈦硅合金(TiSi)具有低電阻率、較高的熱穩定性以及化學(xué)穩定性等諸多不錯的性能。傳統的鈦硅合金的制備是采用純金屬鈦和硅為原料制備的,由于金屬鈦制備成本高,工藝流程長(cháng),導致制備的鈦硅合金成本較高。工業(yè)用硅粉、碳粉和碳化鈦為原料,利用放電等離子燒結技術(shù)原位反應制備了TiSi2/SiC兩相復合材料。弱放熱反應TiSi2燃燒合成的粉末冶金技術(shù),用自蔓延高溫燃燒法合成了TiSi2單相化合物,其合
2024-08-26 面議/套半導體芯片的需求市場(chǎng)比較龐大,集中在手機、PC、、AI、物聯(lián)網(wǎng)、電子汽車(chē)、5G等領(lǐng)域,龐大的市場(chǎng)還是手機、PC、可穿戴設備等電子消費產(chǎn)品。大部分國家電子產(chǎn)品消費市場(chǎng)都不景氣,且短期內很難迎來(lái)報復性增長(cháng)。中國的集成電子領(lǐng)域是一個(gè)穩步增長(cháng)的發(fā)展階段,中芯國際等優(yōu)勢企業(yè)像雨后春筍般涌現出來(lái)。微電子靶材這塊,該屬于第二梯隊,梯隊仍然是日本的公司和美國的霍尼爾等公司。在過(guò)去十幾年里,中國的微電子靶材從零開(kāi)始
2024-08-26 面議/套關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會(huì )|熱點(diǎn)搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點(diǎn)地圖|活動(dòng)推廣|隱私聲明|版權聲明|玻璃供應|聯(lián)系我們|English
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