磁控濺射靶材主要應用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等;亦可應用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高等裝飾用品等行業(yè)。透磁率可以作為評估磁性靶材透磁性能的有效指標，其方法還沒(méi)有相應的行業(yè)標準，很大程度上制約了國內磁性濺射靶材的研發(fā)、制作及工業(yè)化生產(chǎn)。磁控靶的實(shí)際的承載功率除了與濺射工藝、薄膜的質(zhì)量要求等因數有關(guān)外，主要與靶的冷卻狀況和散熱條件密切相關(guān)。磁控靶按其冷卻散熱方式的不同，分為“靶材直接水冷卻”和“靶材間接水冷卻”兩種�？紤]到濺射靶長(cháng)期使用老化后，其散熱條件變差;兼顧各種不同靶材材質(zhì)的散熱系數的不同，磁控靶的使用時(shí)的承載功率。

金屬銦具有延展性好，可塑性強，熔點(diǎn)低，沸點(diǎn)高，低電阻，抗腐蝕等優(yōu)良特性，且具有較好的光滲透性和導電性，被廣泛應用于宇航、無(wú)線(xiàn)電和電子工業(yè)、國防、高新技術(shù)、能源等領(lǐng)域。生產(chǎn)ITO靶材（用于生產(chǎn)液晶顯示器和平板屏幕）是銦錠的主要消費領(lǐng)域，占大部分國家銦消費量的70%；其次電子半導體領(lǐng)域，占大部分國家消費量的12%。我國國內的靶材市場(chǎng)需求也會(huì )大幅增加，同時(shí)，隨著(zhù)國內濺射靶材技術(shù)的不斷成熟，再加上其先天的性?xún)r(jià)比優(yōu)勢，預計2018年中國半導體靶材市場(chǎng)增速有望達到60%，遠高于大部分國家平均水平。 結語(yǔ) 綜上，未來(lái)的2~3年，大部分國家靶材制造產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)能增速會(huì )保持在3%~5%，而中國靶材市場(chǎng)的產(chǎn)能復合年增長(cháng)率將達到30%以上！ 無(wú)。

隨著(zhù)芯片的使用范圍越來(lái)越廣泛，芯片市場(chǎng)需求數量增長(cháng)，對于鋁、鈦、鉭、銅這四種業(yè)界主流的薄膜金屬材料的需求也一定會(huì )有增長(cháng)。種薄膜金屬材料的其他方案，所以這四種材料目前看不到被替代的風(fēng)險。在競爭格局上，由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高，產(chǎn)主要集中在美國、日本少數幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等為代表的濺射靶材生產(chǎn)商占據大部分國家絕大部分市場(chǎng)份額。握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴格的保密措施，限制技術(shù)擴散，同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個(gè)應用領(lǐng)域。市場(chǎng)的主動(dòng)權，并帶領(lǐng)著(zhù)大部分國家濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。性?xún)r(jià)比。

美國、日本企業(yè)仍然占有大部分國家主要市場(chǎng)份額。 濺射鍍膜技術(shù)起源于國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發(fā)展于國外。高純?yōu)R射靶材伴隨著(zhù)半導體工業(yè)的發(fā)展而興起，是典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)，以美、日企業(yè)為代表的國外企業(yè)占強勢地位。日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)、愛(ài)發(fā)科等占據著(zhù)大部分國家靶材市場(chǎng)的 80%的份額，****國內。靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。ito。

主營(yíng)產(chǎn)品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

地區：廣東 廣州 花都區
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產(chǎn)品屬性：
計量單位：套 供貨總量：9999 最小起訂量：10 產(chǎn)品單價(jià)：3000.00 品牌： 規格型號： 包裝說(shuō)明：