CuSe化合物旋轉靶材的制備方法，具體步驟如下：步驟1：選用無(wú)磁管材為基體；無(wú)磁管材選用無(wú)磁不銹鋼管、金屬銅管、金屬鈦管、鎳鉻管、鎳鋁管，無(wú)磁管材經(jīng)加工尺寸達到使用要求，兩端按要求加工成連接用螺扣，并對其表面進(jìn)行噴砂、清洗、烘干等預處理。步驟2：利用超音速冷噴涂技術(shù)將CuSe粉體在預處理后的基體外表面噴涂，沉積層厚度不超過(guò)20mm；再利用冷等靜壓技術(shù)在非常高壓下進(jìn)一步提高密度；

UVTM為客戶(hù)提供各種稀有金屬靶材，多種材料合金靶材，陶瓷靶材，粉末和顆粒靶材，主要有氧化鈮、氧化鈦、氧化鋯、高純銀、鉻、鈦、不銹鋼、硅、鉬、錫、石墨、ITO、鎳鉻、鈦鋁、AZO，鉻銅邦定等靶材，同時(shí)還設有靶材幫定及金屬化等服務(wù)。 在產(chǎn)品質(zhì)量檢測環(huán)節，我們在各個(gè)環(huán)節的檢驗都是第三方的，每種材料都要通過(guò)SGS和客戶(hù)認可的專(zhuān)業(yè)檢測機構檢測后才進(jìn)一步加工。我們客戶(hù)更加有理由期待—我們的產(chǎn)品質(zhì)量更穩定，交貨更及時(shí)，服務(wù)更周到。

PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環(huán)節。其中，關(guān)鍵環(huán)節。其中，陶瓷化合物靶材包含氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等。2014年，霍尼韋爾研發(fā)出等徑角塑型（ECAE）新型靶材，具有更高的材質(zhì)硬度和更少的雜質(zhì)顆粒，牢牢把控著(zhù)國內市場(chǎng)的高等領(lǐng)域。半導體領(lǐng)域對靶材的要求非常高，對濺射靶材的金屬材料純度、內部微觀(guān)結構等方面都設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(cháng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，因而有實(shí)力產(chǎn)出高純電子級靶材的企業(yè)與公司并不得多。半導體材料可以分為晶圓材料和封裝材料，導體材料市場(chǎng)占比在3%左右的濺射靶材。

熱壓工藝制作過(guò)程所需的成型壓力較小，燒結溫度較低，燒結較短。但熱壓法生產(chǎn)的ITO靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均勻。半導體靶材產(chǎn)品已應用于以臺積電為代表的有名晶圓代工廠(chǎng)商的先進(jìn)制造工藝，在14/16nm技術(shù)節點(diǎn)實(shí)現批量供貨，聯(lián)電也是該公司的大客戶(hù)，此外，格芯、意法半導體也都采用了其產(chǎn)品，同時(shí)，該公司也是本土晶圓代工****企業(yè)中芯國際、華宏等的優(yōu)質(zhì)供應商，滿(mǎn)足了國內廠(chǎng)商在28nm技術(shù)節點(diǎn)的量產(chǎn)需求。有統計顯示，江豐電子的產(chǎn)品已經(jīng)成功打入了大部分國家280多個(gè)半導體芯片制造工廠(chǎng)。濺射靶材在生產(chǎn)過(guò)程過(guò)有個(gè)環(huán)節是真空鍍膜，在真空鍍膜中，方法主要有蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜，其中濺射鍍膜又可以分為不同種類(lèi)，今天四豐電子材料的小編就帶大家了解下靶材濺射鍍膜的種類(lèi)及特點(diǎn)。

濺射鍍膜的原理是在真空條件下，通過(guò)電子氬離子對靶材表面進(jìn)行轟擊，靶材表面材料以分子、原子、離子或電子等形式被濺射出來(lái)，飛濺到基板上沉積成膜。目前鍍膜行業(yè)使用的磁控濺射旋轉靶材，包括襯管，其兩端端部上均設有內凹的密封槽，用于放置密封圈以達到安裝后的密封性。由于旋轉靶材襯管一般由鋁、鋁合金、銅或銅合金制成，使得其自身強度不是很高，旋轉靶材端部管壁較薄，在端部上設置密封槽，進(jìn)一步減薄了端部管壁厚度，使得旋轉靶材在安裝過(guò)程中容易出現變形而安裝不上等情況，從而需要更變新的旋轉靶材，造成較大的浪費。面板靶材：主要用于制作ITO玻璃及觸控屏電極平板。當前國內平板顯示和光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速,ITO靶材制造技術(shù)不斷取得打破,未來(lái)我國將可能會(huì )成為銦純大國,應大力發(fā)展國內更新銦產(chǎn)業(yè),建立健全銦儲備機制,并加強與重要資源國的產(chǎn)能合作,保障國內新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展的資源需求。

中國的半導體行業(yè)正處于成長(cháng)關(guān)鍵期。半導體領(lǐng)域對靶材的要求非常高，等方面都設定了極其苛刻的標準，需要掌握生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過(guò)長(cháng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，電子級靶材的企業(yè)與公司并不得多。也使得電子級靶材價(jià)格較為昂貴。日本在電子行業(yè)的上游材料領(lǐng)域占據了優(yōu)勢，在硅晶圓材料、光罩、靶材等重要的細分子領(lǐng)域的市場(chǎng)份額都超過(guò)50%。到?jīng)_擊而停產(chǎn)，括韓國在內的世界其他地區半導體企業(yè)就將遇到材料供應難題。半導體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、P拋光材料、以及靶材等；在國內占據了大部分中等和要求不高的靶材市場(chǎng)份額。噴涂靶材。磁控濺射鍍膜是目前鍍膜行業(yè)應用廣泛的鍍膜沉積工藝。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

主營(yíng)行業(yè)：化工原料、輔料//玻璃油墨 化工原料、輔料//其它 公司注冊地址：廣州市尤特新材料有限公司 法人代表：周志宏
員工人數：200-500人 廠(chǎng)房面積： 年營(yíng)業(yè)額：
年進(jìn)口額： 年出口額： 主要市場(chǎng)：
客戶(hù)群：
公司名稱(chēng):廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬(wàn)元/年-人民幣5000萬(wàn)元/年 公司網(wǎng)址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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