多弧離子鍍膜機是采用電弧放電的方法，在固體的陰較靶材上直接蒸發(fā)金屬，蒸發(fā)物是從陰較弧光輝點(diǎn)放出的陰較物質(zhì)的離子，從而在基材表面沉積成為薄膜的方法。
　　
　　為了滿(mǎn)足鍍膜制和各種多層薄膜及復合化合物薄膜的要求，多功能多弧離子鍍膜已成為目前研究發(fā)展的方向和熱點(diǎn)。多弧離子鍍膜采用孿生靶的先進(jìn)技術(shù)，克服直流濺射固有的靶中毒、打火等不良弊病，使鍍件的舒緩反應耐蝕性能又有所提高和改善。
　　
　　多弧離子鍍膜的中心安裝柱狀多弧靶，靶材為鈦或鋯。它不但能保持多弧技術(shù)離化率高、沉積速率高的特點(diǎn)，還能有效地降低小平面多弧靶沉積過(guò)程中很難避免的“液滴”的缺點(diǎn)，從而可以制備出低孔隙率的金屬薄膜或化合特薄膜；在周邊安裝了孿生平面磁控靶，靶材為鋁或硅；中外，在周邊安裝多個(gè)小平面多弧蒸發(fā)源，靶材為鉻或鎳，可以鍍制多層金屬膜和多層復合膜。
　　
　　復合式離子鍍膜設備由于具有多種不同形式鍍膜裝置及不同材質(zhì)的蒸發(fā)源及發(fā)射靶，它們既可以單獨地分別工作又可以同時(shí)工作，既能制備純金屬膜又能制備金屬化合物膜或復合材料膜；既能制備單層薄膜又能制備多層復合膜，用途較其廣泛。