為了降低旋轉磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠(chǎng)家和學(xué)者共同對靶材結構進(jìn)行了研究。研究結果表明，通過(guò)調整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高靶材利用率和靶材的刻蝕寬度，這樣靶材利用率能達到40%左右，而傳統的靶材利用率不到30%。

    有學(xué)者提出了一些結構簡(jiǎn)單可靠度高的新型陰較靶結構：旋轉陰較靶結構，其中磁靴由磁軛板、外磁鐵和中心磁鐵組成， 其中靴板是一個(gè)和鎳靶同直徑的環(huán)形軟鐵圓盤(pán)， 短環(huán)形的外磁鐵安裝在磁軛板的邊緣，中心磁鐵是由 FeNdB 材料制成的永磁體，被偏心安裝在磁軛板上。磁軛繞著(zhù)靶的中心線(xiàn)旋轉，并帶動(dòng)中心磁鐵繞著(zhù)靶材的中心線(xiàn)偏心旋轉，磁力線(xiàn)在中心磁鐵和短外磁鐵之間形成閉合回路，使靶面的磁力線(xiàn)分布擴寬，增加了濺射面積。

    同時(shí)，研究結果也表明，磁軛傾角的增加，磁流密度分布擴展且均勻性增強，刻蝕區域朝著(zhù)靶材外方向變寬。靶材廠(chǎng)家還比較了旋轉時(shí)兩種不同形狀的外磁軛對靶材刻蝕形貌和利用率的影響，研究表明，當利用圓形外磁軛時(shí)，隨著(zhù)磁軛傾角由0?增至8?，靶材利用率從60%到80%呈線(xiàn)性增加。當外磁軛是橢圓形時(shí)，靶材的平均利用率為70%，而與磁軛的傾角無(wú)關(guān)。在相同的磁軛角度下，橢圓形磁軛的刻蝕速率是圓形磁軛刻蝕速率的1.2倍，因此可以根據不同的工藝參數選擇合適的磁軛傾角和外磁軛形狀。

    數據表明：旋轉陰較靶結構的靶材，其利用率比平面結構的靶材的利用率高。在未來(lái)的研究領(lǐng)域中，磁控濺射技術(shù)與表面工程技術(shù)、機械工程等技術(shù)的結合成為必然趨勢，如何從結構改良和表面處理著(zhù)手來(lái)提高靶材表面材料特性， 增加換熱效果，提高靶材利用率以及有效提高生產(chǎn)線(xiàn)換靶效率將成為靶材廠(chǎng)家研究的方向。