【中玻網(wǎng)】減反射膜也稱(chēng)增透膜，主要功能是減少材料表面的反射光，增加透射光，是一種應用范圍很廣的鍍膜膜層，已被廣泛應用于日常生活、電子、工業(yè)、天文、軍事等領(lǐng)域。傳統的清洗方法是采用表面活性劑清洗，不僅加重環(huán)境污染，而且需要反復進(jìn)行，耗費大量的人力、財力和物力。因此，近年來(lái)，自清潔減反射膜的研究和發(fā)展受到較大關(guān)注，制備具有自清潔特性并且效率高率的減反射膜成為技術(shù)發(fā)展的需要。

　　原理簡(jiǎn)介。（1）減反射原理，為了減少反射光，增加透射光，可在基底表面鍍具有合適厚度和折射率的膜層，其減反射效果主要是通過(guò)相消性干涉方式來(lái)實(shí)現，主要是利用膜系產(chǎn)生的干涉效果來(lái)清理反射光，提高光的透過(guò)率。（2）自清潔原理，親水性方面，水滴在材料表面上的接觸角趨于零，當水接觸材料時(shí)，迅速在其表面鋪展形成均勻的水膜，并通過(guò)水膜的重力下落可以去除污漬，從而達到自清潔效果；疏水性方面，原理是基于“荷葉效應”，荷葉的自潔效應是源于其表面的空氣層、乳頭狀突起和蠟質(zhì)層共同組成的細微結構，這種粗糙的細微結構可以提高水滴在材料表面的接觸角，使水滴較容易滾落，水滴在材料表面滾動(dòng)時(shí)會(huì )帶走灰塵和污染物，從而達到自清潔的效果。

　　自清潔減反膜的常用材料。（1）二氧化鈦，因其光致催化性、光致超親水性、成本低廉而被廣泛用作自清潔減反膜的材料，特別是納米級粉末和薄膜的發(fā)展，使TiO2的應用得到了推廣。但是由于TiO2薄膜超大的缺點(diǎn)是折射率較高，一般在2.2~2.7之間，會(huì )增加透明基底表面的反射率，因此，科學(xué)研究工作者們采用不同工藝方法來(lái)降低TiO2薄膜的折射率，2011年，王建伍等人利用溶膠—凝膠法制備出的SiO2/TiO2雙層減反膜，在可見(jiàn)光波段的透過(guò)率很高可達到97.2%，紫外光照射后薄膜的接觸角接近0°，具有較好的自清潔性。（2）二氧化硅，具有低折射率（折射率約為1.3）、低價(jià)電性、高化學(xué)穩定性、耐酸堿腐蝕性等優(yōu)良性能，是目前研究超多，也是應用廣泛的減反膜之一。如今，諸多科學(xué)家在探究和構建具有“荷葉效應”的SiO2減反膜，Wei-Lun Min等采用旋涂法和刻蝕技術(shù)制備出了有序的微凸體二氧化硅六角柱顆粒陣列結構，增強了材料表面可見(jiàn)光的透過(guò)率，并且通過(guò)控制刻蝕時(shí)間長(cháng)短控制其接觸角，使其具備自清潔特性。

　　自清潔減反膜的研究進(jìn)展。在自清潔減反膜的研究工作中，眾多優(yōu)異科研工作者做出了優(yōu)越的貢獻并取得了一定的成就。2013年，文獻采用疊層技術(shù)（LBL）在玻璃基底上制備出由納米顆粒、空心納米微球和納米片組成的具有寬波長(cháng)減反射和超雙疏的薄膜。雖然科學(xué)研究者們已經(jīng)采取了各種各樣的手段來(lái)構建具有自清潔性能的減反膜，但是居多的研究知識局限于實(shí)驗室的研究階段，并不適合大規模的生產(chǎn)，因此，對于實(shí)際的生產(chǎn)應用仍然存有較大的機遇和挑戰：首先，機械性差；其次，成本高，規模小�，F今報道的具有自清潔特性的制備工藝大多都涉及了復雜的工藝過(guò)程、較為嚴苛的制備環(huán)境、昂貴的試劑和設備等，成本較高，并且只適用于較小的基底或者特定的基底材料，規模較小。

　　自清潔減反膜的發(fā)展趨勢。此類(lèi)有限的耐久性和高昂的成本會(huì )阻礙這種具有自清潔特性的減反膜的應用和發(fā)展。未來(lái)，下列研究方向將引起更多研究工作者們的注意力：①利用現在先進(jìn)的分析手段及工具和理論計算水平，更多地探索揭示薄膜組分、結構、表面特性的關(guān)系以及薄膜機制的構建；②構建具有高機械強度和耐用型的自清潔減反膜表面結構依然是研究工作中的要點(diǎn)，當然，環(huán)境因素也應考慮在內；③新型材料和先進(jìn)的鍍膜技術(shù)的應用，也可以拓寬自清潔減反膜的應用領(lǐng)域。