平板產(chǎn)業(yè)受到工藝技術(shù)和設備的制約，特別是TFT的工藝制程與集成電路相當，潔凈技術(shù)尤為重要。記者從“2009中國(無(wú)錫)潔凈工程高峰論壇”上了解到，隨著(zhù)集成電路制造技術(shù)的不斷升級，大部分國家主流廠(chǎng)商已經(jīng)進(jìn)入納米時(shí)代，制造集成電路所需的潔凈廠(chǎng)房的設計建造和節能創(chuàng )新也需要不斷提升，為先進(jìn)工藝產(chǎn)品的生產(chǎn)提供保障。在平板顯示領(lǐng)域，TFT-LCD第6代到第8代生產(chǎn)線(xiàn)已經(jīng)成為主流，在數萬(wàn)平方米的潔凈廠(chǎng)房?jì)葘?shí)現自動(dòng)化生產(chǎn)，也對潔凈室的設計建造技術(shù)提出新的要求。今年7月1日，國家標準《電子工業(yè) 潔 凈 廠(chǎng) 房 設 計 規 范 》(GB50472)正式實(shí)施，這是我國專(zhuān)門(mén)針對電子工業(yè)領(lǐng)域的潔凈廠(chǎng)房設計推出的靠前個(gè)國家標準，它將幫助企業(yè)優(yōu)化潔凈室的設計與建造。

　　在本次高峰論壇上，來(lái)自國內優(yōu)異的潔凈室設計建造企業(yè)和集成電路、平板顯示器制造企業(yè)的相關(guān)人士向與會(huì )各界人士介紹了潔凈室領(lǐng)域的較新技術(shù)與成功案例。

　　據國家標準《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)廠(chǎng)房設計規范》主編陳霖新介紹，45nm非常大規模集成電路生產(chǎn)要求控制潔凈室的空氣潔凈度為ISO1級或2級，控制微粒粒徑為0.03μm。隨著(zhù)集成度的不斷提高，加工尺寸日益微細化，這不僅要求達到十分嚴格的空氣潔凈度等級標準，而且要確保在整個(gè)產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中，微粒不黏附在芯片上、芯片不受化學(xué)污染物的污染、芯片表面不受損傷。

　　“電子潔凈廠(chǎng)房的施工特點(diǎn)是造價(jià)貴、工期短、品質(zhì)要求高、復雜度和整合度高。”中國電子系統工程公司第二建設有限公司總工程師施紅平在演講中表示，“對于潔凈廠(chǎng)房的施工而言，必須克服高空作業(yè)、大面積精度控制和全過(guò)程潔凈施工控制等難題。”

　　中芯全部上海廠(chǎng)務(wù)處資歷豐富經(jīng)理陳玉峰則強調：“氣態(tài)分子級污染物(AMC)是危害生產(chǎn)工藝并導致成品率降低的分子態(tài)化學(xué)物質(zhì)，會(huì )在半導體制造多個(gè)關(guān)鍵工藝上造成各種危害，影響產(chǎn)品質(zhì)量。隨著(zhù)半導體制造技術(shù)的發(fā)展，對AMC的控制將越來(lái)越嚴格。而單一的采用化學(xué)過(guò)濾器去除AMC的控制方法受許多條件的限制，并且會(huì )大幅提高運行成本。因此應該從設計選址、設備選型、改進(jìn)工藝流程等多方面進(jìn)行考慮。”