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金剛石膜生成設備

來(lái)源： 作者：佚名 2005/4/4 11:28:00

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LD-Ⅱ金剛石膜生成儀可在常溫、常壓條件下合成金剛石膜，它的投產(chǎn)使用，打破了傳統金剛石膜高溫、高壓生成條件及成膜面積小等缺點(diǎn)，擴大了金剛石膜的使用范圍。該設備生產(chǎn)的金剛石膜由納米級金剛石晶體構成，具有同金剛石相同的光學(xué)、力學(xué)、熱學(xué)、電學(xué)、化學(xué)、醫學(xué)和聲學(xué)性能，可在玻璃、塑料、陶瓷、金屬等基材表面生成。主要原理是讓含碳氣體通過(guò)電離，在電場(chǎng)中獲得電子定向沉積，控制氣壓、電流電壓、原料配比、濃度及沉積速度、時(shí)間，實(shí)現碳原子的結晶。
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