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北京石久高研金屬材料有限公司

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主營(yíng):高純鋁粒,高純銅靶,高純鈦靶,高純鋁靶,二氧化硅,AZO靶材,ITO靶材,高純鉻靶,鉻粒,鋁粒,銅粒,高純金屬靶材,鍍膜材料,真空鍍膜材料,光學(xué)鍍膜材料,鍍膜靶材

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北京石久高研金屬材料有限公司 > 化工原料、輔料 > 高純鋁靶生產(chǎn)廠(chǎng)家

高純鋁靶生產(chǎn)廠(chǎng)家

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    供貨總量:100

    聯(lián)系人:燕麗梅

    發(fā)貨地點(diǎn):北京 北京 昌平區

    發(fā)布時(shí)間:2015年07月03日

    有效期至:2016年07月05日

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基本信息

高純鋁靶

化學(xué)符號:Al外 觀(guān):銀白色原 子 量:26.98154蒸發(fā)溫度:1220℃密 度:2.7g/cm3熔 點(diǎn):660℃沸 點(diǎn):2467℃汽化溫度:1082℃電 阻 率/μΩ•cm:2.66電阻溫度系數/℃-1:4.20×10-3溶 解 于:氫氧化鈉,堿類(lèi),稀硝酸蒸發(fā)方式:鎢絲或鉬舟蒸發(fā)源材料(絲、片):W坩 堝:BN、TiC/C、TiB2-BN性 能:鋁膜從紫外區到紅外區具有平坦而且很高的反射率,鋁膜對基地的附著(zhù)力比較強,由于鋁膜表面總是存在著(zhù)一層透明的Al2O3薄膜的保護,所以鋁膜的機械強度和化學(xué)穩定性都比較好。通常真 空蒸發(fā)制備的鋁膜呈銀灰色,但有時(shí)也呈黑色。蒸發(fā)源為電子槍?zhuān)貫檠趸璞∧ぃ?00nm厚),蒸鍍鋁料的純度為99.999%。合金及相濕、鎢多股絞合較好;加工性能好,可加工成任意形狀;應 用:保護膜,反射膜,增透膜用 途:超純鋁用于制造光電子存儲媒體;作為集成電路的配線(xiàn)

北京石久高研金屬材料有限公司基本信息

北京石久高研金屬材料有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)石久高研)公司成立于2005年,是經(jīng)北京市科學(xué)技術(shù)委員會(huì )確認的高新技術(shù)企業(yè)。地理位置優(yōu)越,交通便利。自公司成立以來(lái)受到有色金屬研究總院、中國科學(xué)院、清華大學(xué)等科研院校的大力支持,并保持著(zhù)長(cháng)期穩定的合作關(guān)系。石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司擁有一流的鍍膜材料領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)人才,具有雄厚的研發(fā)、生產(chǎn)實(shí)力。隨著(zhù)近年來(lái)高科技領(lǐng)域內薄膜的興起和蓬勃發(fā)展,特別是微電子與光電子產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展,對鍍膜材料的要求也達到了一個(gè)新的高度,公司密切關(guān)注國內外鍍膜及鍍膜材料的發(fā)展方向,為相關(guān)行業(yè)提供先進(jìn)、優(yōu)質(zhì)的鍍膜材料。公司是靶材、合金靶材、金屬靶材、陶瓷靶材、氧化物鍍膜材料、低溫超導陶瓷等產(chǎn)品專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)加工的公司,擁有完整、科學(xué)的質(zhì)量管理體系。展望未來(lái),與時(shí)俱進(jìn)。我們將始終堅持“品質(zhì)就是生命,信譽(yù)就是效益”的經(jīng)營(yíng)理念,憑借強大的科研實(shí)力和精良的制造設備,以及對客戶(hù)高度的責任心,相信明辰必將成為行業(yè)的領(lǐng)跑者,與廣大客戶(hù)攜手共進(jìn),合作雙贏(yíng),一起迎接明天的輝煌。公司供應真空濺射靶材:金屬靶材:鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、碳靶C、釩靶V、銦靶In、鎢靶W、銅靶Cu、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鋯靶Zr、鉻靶Cr、不銹鋼靶材S-S、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge等……合金靶材:鐵鈷靶FeCo、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等……陶瓷靶材:一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2,五氧化二鉭靶Ta2O5,五氧化二鈮靶Nb2O5,氧化鋅靶ZnO、氧化鎂靶MgO,ITO靶,硅靶Si、氟化鎂靶MgF2、氟化鈣靶CaF2純度:《99.9%—99.999%》根據客戶(hù)要求加工成各種規格尺寸的靶材。光學(xué)鍍膜材料氧化物:一氧化硅SiO、二氧化硅SiO2、一氧化鈦TiO、二氧化鈦TiO2、三氧化二鈦Ti2O3、五氧化三鈦Ti3O5、二氧化鋯ZrO2、二氧化鉿Hf02、三氧化鎢WO3、五氧化二鉭Ta2O5、五氧化二鈮Nb2O5、三氧化二鋁Al2O2、氧化鋅ZnO、氧化鎂MgO、氧化釓Gd2O2、氧化釤Sm2O3、氧化釹Nd2O3、氧化鐠Pr6O11、氧化鉍Bi2O3、氧化鉻Cr2O3、氧化鎳NiO、氧化鐵Fe2O3等…氟化物:氟化鎂MgF2、氟化鈣CaF2等…真空鍍膜材料(鍍制:復合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,氣敏傳感器膜,高溫介質(zhì)膜,光學(xué)膜,激光裝置濾光片,保護膜,透明導電膜,變色膜,優(yōu)良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見(jiàn)光區增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光膜膜)高品質(zhì)真空鍍膜材料(4N-5N):1.氧化物:一氧化硅靶材,SiO靶材,二氧化硅靶材,SiO2靶材,二氧化鈦靶材,TiO2靶材,二氧化鋯靶材,ZrO2靶材,二氧化鉿靶材,HfO2靶材,一氧化鈦靶材,TiO靶材,五氧化三鈦靶材,Ti3O5靶材,五氧化二鈮靶材,Nb2O5靶材,五氧化二鉭,Ta2O5靶材,等高純氧化物鍍膜材料。2.氟化物:氟化鎂靶材,MgF2顆粒,氟化鈣顆粒等高純氟化物。3.金屬鍍膜材料:高純鋁靶材,Al靶材,高純銅靶材,Cu靶材,高純鈦靶材,Ti靶材,高純硅靶材,Si靶材,高純銀靶材,Ag靶材,高純銦靶材,In靶材,高純鎂靶材,Mg靶材,高純鋅靶材,Zn靶材,高純鍺靶材,Ge靶材,高純鎳靶材,Ni靶材,鎳鉻合金靶材,NiCr靶材,鋅鋁合金靶材等鍍膜材料。

主營(yíng)產(chǎn)品:高純鋁粒,高純銅靶,高純鈦靶,高純鋁靶,二氧化硅,AZO靶材,ITO靶材,高純鉻靶,鉻粒,鋁粒,銅粒,高純金屬靶材,鍍膜材料,真空鍍膜材料,光學(xué)鍍膜材料,鍍膜靶材 公司成立年份:2005
公司網(wǎng)址:http://shijiugaoyanyan.glass.com.cn

產(chǎn)品屬性:
計量單位:片 供貨總量:100 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):1200.00 品牌: 規格型號: 包裝說(shuō)明:

高純鋁靶生產(chǎn)廠(chǎng)家產(chǎn)品概況

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