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供應標題:大平面陰較濺射靶
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:深圳市昊光機電應用科技有限公司
供貨總量:
聯(lián)系人:王明
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 深圳 龍崗區
發(fā)布時(shí)間:2015年10月12日
有效期至:2016年04月13日
在線(xiàn)詢(xún)盤(pán):在線(xiàn)詢(xún)盤(pán)
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
大平面濺射陰極
特點(diǎn):
1、采用獨特的磁路設計,突破傳統模式,更符合磁控濺射的理念。
2、采用獨特的結構設計,可以?xún)戎、外置,更符合使用要求?/p>
3、磁鐵不被冷卻水包圍,減少腐蝕,且保證磁力線(xiàn)的有效曲線(xiàn)分布。
4、獨特的布氣方式,更加保膜層濺射的均勻性,其等離子狀態(tài)更加平衡。
5、更高的濺射率,離子密度更強。
6、更高的利用率,高達40%以上。
7、尺寸范圍:可在300-3000mm區間,保持一致的均勻性
8、使用范圍:如TI、AL、NI、CR、AZO、ITO等
應用領(lǐng)域:
半導體、MEMS、TFT、ITO、low-e玻璃、硬質(zhì)涂層、裝飾性膜層
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