我司是專(zhuān)門(mén)從事光電新材料研發(fā)、生產(chǎn)與全球銷(xiāo)售為一體的高科技綜合性公司。由資深專(zhuān)家帶領(lǐng)著(zhù)一支高素質(zhì)的研發(fā)團隊和經(jīng)驗豐富的管理人員組成，並與上海各高校及海外公司有著(zhù)多年的技術(shù)和人才合作。我司主要通過(guò)氧氣充足燒結方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結方法在國內處於領(lǐng)先技術(shù)，根據客戶(hù)的具體要求加工各種材質(zhì)，各種規格的鍍膜材料，並為客戶(hù)提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應用於：半導體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽(yáng)能電池板、據儲存工業(yè)（光碟工業(yè)）、平板液晶顯示器（LCD）、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建築玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面改性）等行業(yè)，品質(zhì)達到國際較早進(jìn)水準，填補了我國靶材在中、高端製造領(lǐng)域應用的空白。

錳靶Mn，鈮靶Nb，鎳靶Ni，鉛靶Pb，鈀靶Pd，鉑靶Pt，錸靶Re，銠靶Rh，釕靶Ru，銻靶Sb，鈧靶Sc，硒靶Se，硅靶Si，釤靶Sm，錫靶Sn，鉭靶Ta，鋱靶Tb，碲靶Te，鈦靶Ti，釩靶V，釔靶Y，鐿靶Yb，鋅靶Zn，鋯靶Zr。